2007年9月19日下午，局学术委员会举办了美国应用材料公司半导体技术交流会。电学部、复审委、协作中心等部门从事半导体相关领域专利审查工作的同志参加了会议。 

　　会上，美国应用材料公司知识产权总监邝锦安和孙克俭分别介绍了该公司的背景、半导体工业的驱动因素、半导体工业的变化和半导体新技术的挑战，并与与会同志就相关技术问题进行了深入交流与探讨。大家踊跃提问，给美国应用材料公司人员留下了深刻印象，学术委员会还将本次技术交流会的相关资料公布在学术委员会网站上，供未能参加会议的同志浏览和下载。 

　　通过举办此次会议，增进了审查员对半导体技术发展现状的认识和理解，有助于提高相关领域专利审查工作的审查质量和审查速度。美国公司表示，对比美国和欧专局的审查员，我局审查员在业务上更加钻研和深入。 

　　今后，局学术委员会将继续协同各相关部门举办此类技术交流会，为审查员全面、深入地了解相关领域技术发展现状和做好技术更新提供更多的学习和交流的机会，服务于全局审查能力的提高。

2008-01-22