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| 国家知识产权局工作人员违反专利法和集成电路布图设计保护条例行政处分规定 |
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随着《专利法》的修改和《集成电路布图设计保护条例》的颁布实施,我局对1999年制定的《国家知识产权局工作人员违反专利法行政处分暂行规定》进行了修订,更名为《国家知识产权局工作人员违反专利法和集成电路布图设计保护条例行政处分规定》。现将该规定全文刊登如下,以供全体工作人员了解和掌握。请大家认真遵守,防止发生违反规定的行为。 第一条 为促进国家知识产权局工作人员严格依法行政,根据专利法及其实施细则、集成电路布图设计保护条例(以下简称布图设计条例)及其实施细则和有关法律、法规,制定本规定。 第二条 国家知识产权局工作人员玩忽职守、滥用职权、徇私舞弊违反专利法及其实施细则、布图设计条例及其实施细则以及相关规定,依照本规定给予行政处分;涉嫌犯罪的,移送司法机关追究刑事责任。 第三条 本规定适用于国家知识产权局及专利局的工作人员。局直属单位、社团组织工作人员参照本规定执行。 第四条 行政处分的种类:警告、记过、记大过、降级、撤职、开除。 第五条 在专利和布图设计的受理、收费、审查、登记、公告、复审、无效等过程中,违反流程管理程序,造成不良影响的,给予警告至记大过处分;造成严重后果的,给予降级至开除处分。 第六条 在专利和布图设计的审查、登记、复审、无效过程中,以权谋私,对符合授权、登记条件却不授予专利权、不给予布图设计登记,或对不符合授权、登记条件却授予专利权、给予布图设计登记的,给予警告至记大过处分;由此造成严重后果的,给予降级至开除处分。 第七条 在专利和布图设计审查、登记、复审、无效过程中,采取拖延审查、拖延登记等手段刁难当事人,造成不良影响的,给予警告至记大过处分;由此造成严重后果的,给予降级至开除处分。 第八条 在专利申请或布图设计申请未公开前(公开以我局出版的公报为准),泄露其内容的(含说明书、权利要求书、附图、摘要、照片、著录项目等),给予警告至记大过处分;由此造成严重后果的,给予降级至开除处分。 第九条 篡改专利或布图设计的有关数据,给予警告至记大过处分;由此造成严重后果的,给予降级至开除处分。 第十条 藏匿或因失职丢失申请文件、中间文件,给当事人造成不良后果的,给予警告至记大过处分;由此造成严重后果的,给予降级至开除处分。 第十一条 在专利和布图设计的审查、登记、复审等程序中,应回避而未回避的,给予警告至记大过处分;造成严重后果的,给予降级至开除处分。 第十二条 私自组织或参与发明创造、转让专利技术、有偿咨询服务(如撰写或修改申请、复审、宣告无效、诉讼有关文件,为专利代理机构介绍业务等获取利益的行为),给予警告至记大过处分;由此造成严重后果的,给予降级至开除处分。 第十三条 以个人或化名等方式申请专利或布图设计登记的,给予警告至降级处分。剽窃申请人技术,以其它方式申请专利或布图设计登记的,给予降级至开除处分。 第十四条 因疏于管理,部门、单位发生违反专利法及其实施细则和布图设计条例及其实施细则以及相关规定的事件,造成一定后果的,给予主管人员和部门、单位负责人警告至记大过处分;造成严重后果的,给予降级处分。 第十五条 违反专利法及其实施细则或布图设计条例及其实施细则以及相关规定,有下列情形之一的,可减轻、从轻处分: (一)主动交代违法违纪行为的; (二)主动检举同案人的问题,经查证属实的; (三)主动挽回损失或者有效地阻止危害结果发生的; (四)认错态度较好,有悔改表现的。 第十六条 违反专利法及其实施细则或布图设计条例及其实施细则以及相关规定,有下列情形之一的,加重、从重给予处分: (一) 共同违法违纪负有主要责任的; (二) 屡犯不改的; (三)伪造、销毁、藏匿证据的; (四)包庇同案人的; (五)串供或阻止他人揭发检举、提供证据材料的; (六)有其他干扰、妨碍组织审查行为的。 第十七条 一人犯有本规定中两种以上违纪行为,应当合并处理,按所犯违纪行为中应当受到的最高处分加重一档给予处分;如果其中一种违纪行为应当受到开除处分的,即给予开除处分。 第十八条 对包庇违反专利法及其实施细则、布图设计条例及其实施细则及相关规定行为的工作人员,根据情节轻重给予行政处分。对检举、揭发等有功人员,由监察部门或其所在部门、单位给予表彰。 第十九条 被处分人员对处分决定不服,可自收到行政处分决定之日起三十日内,向监察部门提出复审请求,监察部门应当自收到复审申请之日起三十日内作出复审决定;对复审决定仍不服的,可以自收到复审决定之日起三十日内向上一级监察机关申请复核。 复审、复核期间,不停止原决定的执行。 第二十条 本规定由局监察部门负责解释。 第二十一条 本规定自发布之日起执行。1999年7月7日发布的《国家知识产权局工作人员违反专利法行政处分暂行规定》同时废止。
2005-10-21
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